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立式真空回转磁控溅射镀膜连续线实验平台

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立式真空回转磁控溅射镀膜连续线实验平台特点:,

◆立式连续镀膜真空内旋转设计,可以有效节省安装空间, 

◆ 可以制备AR膜、金属膜、ITO导电膜

◆有效镀膜区域:1100mm*1300mm;可以镀膜大尺寸车载显示屏,大尺寸曲面/异型显示屏

◆箱体可以阴极替换,可以灵活调整阴极位配置。

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成到导电膜、光学膜、颜色膜,平台应用于大尺寸车载、异型产品的工艺开法和设备软硬件测试研发。

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