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双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP实验平台

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HD-SSCK1600-ICP实验平台特点:,

◆适合做菲林(NCVM)、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识别,AR+DLC+AF、NCVM+DLC+AF一次成膜。

◆成膜方式:磁控溅射ICP后离化镀膜,镀率大,成膜致密

◆由CM1进片腔(前处理室)+CM2工艺腔(光学成膜腔)+CM3工艺腔(DLC成膜腔)+CM4(AF成膜室)组成;CM3工艺腔可以模块化切换成光学镀膜腔,各腔可灵活切换工艺配置,适合复杂工艺研发设计制作 。

◆载具挂板可异型设计,制作异型样品

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成光学膜、颜色膜、硬质膜层、DLC、AF膜,实验应用于手机盖板、摄像头,智能家居、智能穿戴,车载显示等镀膜工艺的膜系系设计开发、设备软硬件测试。

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