立式真空磁控溅射镀膜连续线:
◆生产节拍：≥45s
◆产品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金属膜、超高阻膜、低温镀膜
◆可镀膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜层均匀性： 根据不同靶材料均匀性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆设备特点：可单面，双面镀膜，腔体模块式设计
立式真空磁控溅射镀膜连续线:
◆生产节拍：≥45s
◆产品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金属膜、超高阻膜、低温镀膜
◆可镀膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜层均匀性： 根据不同靶材料均匀性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆设备特点：可单面，双面镀膜，腔体模块式设计
公司自成立以来，一直是真空镀膜设备行业内的龙头企业，是行业内少数具有镀膜生产线设备整体设计及系统集成能力的企业之一，被中国通用机械工业协会真空设备分会认定为“真空设备行业重点企业”和“国内真空镀...
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